I ka hana ʻana o ka wafer semiconductor, ʻo ke kaʻina hana lithography kahi hana koʻikoʻi a pololei hoʻi e hoʻoholo ai i ka hua o ka chip. Ma ke ʻano he "kikowaena o ka hōʻike ʻana a me ke kiʻi ʻana" i ke kaʻina hana wafer, hoʻopuni ka lithography i ke kahe hana holoʻokoʻa—me ka uhi ʻana i ka wili, ka hōʻike ʻana, ka hoʻomohala ʻana, ka etching, a me ka hoʻomaʻemaʻe pulu—a kau i nā koi koʻikoʻi loa i ka hoʻomaʻemaʻe ʻana i ke kaiapuni, ka kaohi ʻana i ka haumia, ka pale electrostatic, a me ke kūpaʻa kemika. Hiki i nā ʻāpana lepo Micron-level, ka neʻe ʻana o ka trace ion, a me nā hoʻokuʻu electrostatic transient ke hana pololei i nā hemahema photoresist, ka hewa o ke ʻano, ka oxidation wafer, a me nā kaapuni micro-short i nā kaapuni, e alakaʻi ana i ka ʻoki ʻana o nā wafers holoʻokoʻa a hopena i nā pohō hana nui. He nui nā FAB e hakakā nei e hoʻomaikaʻi i ka hua o kā lākou mau kaʻina hana photolithography. ʻOiai inā pono nā lako, nā kaʻina hana, a me nā ʻāpana kaiapuni, aia pinepine ka bottleneck i nā mea hoʻopau lima lima liʻiliʻi. ʻAʻole kūpono loa nā mīkina lima maʻemaʻe o ka Papa 1,000 maʻamau a i ʻole nā mīkini lima maʻemaʻe ʻoihana no nā kūlana kiʻekiʻe loa o ke kaʻina hana photolithography.
No ke aha i pāpā ʻia ai ka hoʻohana ʻana i nā mīkina lima maʻemaʻe maʻamau i ke kaʻina hana lithography?
Hoʻoulu ke koena pauka i ka haumia photoresist
Hoʻopilikia ka nui o nā iona sulfur a me chloride i nā kaapuni ma nā wafers
Ua pio ka uila static mai ke kaohi ʻana, e hana ana i ka haki ʻana o kahi wafer photolithography kikoʻī
ʻO ka ʻōpala a me ka hoʻokahe ʻana, e alakaʻi ana i nā hemahema o nā mea ʻē i ke kaʻina hana
Nā Mikina Lima Nitrile ʻAʻohe Pauka LjieClean Papa 100
Ke kālele nei ʻo Suzhou Leader i ka ʻāpana hana wafer semiconductor a ke hoʻoponopono nei i nā pilikia i ke kaʻina hana lithography, ua hoʻomohala mākou i nā mikina nitrile Class 100 pauka-ʻole, haʻahaʻa-outgassing e hoʻokō pono ana i nā koi hana o ke kaʻina hana wafer lithography holoʻokoʻa, e hoʻolilo ana iā lākou i nā mea pale makemake nui ʻia no nā ʻoihana fabs a me nā ʻoihana hoʻopili wafer a me nā hoʻāʻo.
1. Kaʻina hana ʻole o ka pauka ma muli o Dichloride: ʻaʻohe haumia pauka i ke kaʻina hana Photolithography
Ma ka hoʻohana ʻana i kahi kaʻina hana hoʻomaʻemaʻe chlorination kūikawā semiconductor, ʻaʻole pono kēia ʻano hana i ka hoʻohui ʻana i nā mea hoʻohui kōkua e like me ka talc, cornstarch, a i ʻole ka ʻaila silicone ma ke kaʻina holoʻokoʻa. Hoʻomaopopo ia i ka noi maʻalahi ma o ke kaʻina hana ponoʻī, e hoʻopau ana i nā ʻāpana pauka a me nā koena ʻaila silicone e haumia ana i ka photoresist ma ke kumu, a pēlā e hoʻopau loa ai i nā hemahema ʻāpana haole i ke kaʻina hana photolithography.
2 Hoʻokō ka holoi wai ultrapure multi-stage i ka sulfur haʻahaʻa, chlorine haʻahaʻa, a me ka ʻike ion haʻahaʻa
Ma o nā pōʻaiapuni he nui o ka holoi hohonu ʻana me ka wai maʻemaʻe kiʻekiʻe, ua wehe ʻia nā mea hoʻohui mea maka a me nā koena o ka ʻili. Hoʻomalu pono ʻia ka nui o ka sulfur, chlorine, a me nā ion metala hiki ke hoʻoheheʻe ʻia, e hopena ana i ka NVR haʻahaʻa (non-volatile residue). Pale kēia i ka oxidation wafer, ka pala o ka uhi ʻana, a me nā hemahema etching, e hoʻolilo ana i nā mīkina lima i kūpono loa me nā kaʻina hana lithography koi no nā wafers 8- a me 12-'īniha.
3 Hoʻomalu ESD i hoʻololi ʻia i loko o ka Mold e pale aku i nā Wafers Electrostatic-Sensitive
ʻAʻole e like me nā mīkina lima anti-static i loaʻa ma ke kālepa me nā uhi pīpī manawa pōkole, hoʻohana ʻo Gonars i kahi ʻenehana hoʻololi anti-static i loko o ka mold ma kahi mea kumu nitrile. Hōʻoia kēia i ke kūpaʻa o ka ʻili a like, e hoʻopuehu mau ana i ka uila static ma ke kaʻina holoʻokoʻa e pale aku i ka hōʻiliʻili static e hiki ai ke hoʻopilikia i ka photoresist a me ka hōʻino ʻana i nā kaapuni wafer precision. He kūpono ia no nā ʻanuʻu lithography koʻikoʻi e like me ka hōʻike ʻana a me ka hoʻomohala ʻana.
4. Kūpono a paʻa pono, kūpono no nā hana pololei o ka pae Micron
He palupalu ka mea hana o ka mīkina lima a kūlike i nā ʻano o ka lima. Me kahi hoʻolālā ʻano paheʻe ʻole ma nā manamana lima, he māmā a ʻaʻole nui, e kūpono ana no nā hana pololei e like me ka lawelawe ʻana i ka wafer photolithography, ka debugging lako, a me ka nānā pololei. Hāʻawi ia i ka neʻe palena ʻole a pale i ka paheʻe ʻana, e hoʻemi pono ana i ka pōʻino i hana ʻia e nā puʻupuʻu ulia pōpilikia i ka wā o nā hana lima. Eia kekahi, kū i nā mea hoʻoheheʻe photolithography a me nā waikawa a me nā alkalis palupalu, a noho paʻa me ka ʻole o ka ʻelemakule a haehae paha i ka wā hoʻohana lōʻihi.
5
✅ Hoʻopau ka ʻōpala i hoʻopaʻa ʻia me ka vacuum papa pālua i ka haumia lua
Hoʻopili ʻia nā huahana i hoʻopau ʻia ma ke kaʻina hana holoʻokoʻa i loko o kahi lumi maʻemaʻe Papa 100 me ka hoʻohana ʻana i ka ʻōpala i hoʻopaʻa ʻia i ka vacuum papa pālua, kahi e hoʻokaʻawale loa ai iā lākou mai ka lepo a me ka makū i ka wā e mālama ai a me ka lawe ʻana. ʻAʻohe haumia lua i ka wehe ʻana i ka ʻeke, e ʻae ana iā lākou e hoʻohana koke ʻia i loko o nā lumi maʻemaʻe lithography Papa 100.
Ka manawa hoʻouna: Iulai-23-2026